Physical Vapor Deposition (PVD)-technologie verwijst naar het gebruik van fysische methoden onder vacuümomstandigheden om het oppervlak van een materiaalbron (vast of vloeibaar) te verdampen tot gasvormige atomen of moleculen, of gedeeltelijk te ioniseren tot ionen en door een gas met lage druk (of plasma) te leiden. Het proces, een technologie voor het afzetten van een dunne film met een speciale functie op het oppervlak van een substraat, en Physical Vapor Deposition is een van de belangrijkste oppervlaktebehandelingstechnologieën. PVD-coatingtechnologie (Physical Vapor Deposition) wordt hoofdzakelijk onderverdeeld in drie categorieën: vacuümverdampingscoating, vacuümsputtercoating en vacuümionencoating.
Onze producten worden voornamelijk gebruikt voor thermische verdamping en sputtercoating. De producten die worden gebruikt bij dampdepositie zijn onder andere wolfraamdraad, wolfraamboten, molybdeenboten en tantaalboten. De producten die worden gebruikt bij elektronenbundelcoating zijn kathodewolfraamdraad, koperen kroes, wolfraamkroes en molybdeenverwerkingsonderdelen. De producten die worden gebruikt bij sputtercoating zijn onder andere titanium targets, chroom targets en titanium-aluminium targets.
